第386章 光源打靶问题，改写微观曝光物理规则！

在看了材料组的情况之后。

林决又来到EUV光学平台总实验室内。

在新材料的研发过程中。

光学组这边也没闲着，一直在对林氏函子光学变式，零偏映射装入整机的方案，进行着不断的改进和测试。

林决打开门走进实验室，那股熟悉的臭氧味瞬间迎面而来。

皱着眉适应了好一会儿，陈望山才笑呵呵道，

“我还以为在交流会结束后，你还得跟那些数学机构应酬呢。”

林决笑道，

“老师我可没那个精力，让学校去管吧，还是实验室待着不烧心......”

正在调试光路的蒋墨闻言后也不回道，

“这话我爱听！得劲儿！”

在场众人闻言，不禁都是都是笑了出来。

大家能来参与这个项目，目的都挺纯粹的！

那便是搞出一台完全自主研发，达到国际一流水平的光刻机！

“好了，大家先停一下！我们开个短会。”

林决到拍了拍手，然后把众人叫到办公室。

“老师，先具体说说最近一周的情况。”

陈望山点了点头，

“这个成绩极其亮眼，已经达到装机水平了。”

“可以。”

林决点了点头，并没有丝毫意外。

紧接着，其余各个岗位也开始跟进汇报。

约莫十五分钟后。

陈望山基本将本周光学组进度完全告知后，林决满意点了点头，

“

......目前看来，我们进度非常完美！”

“多层膜误差的工作，基本可以进行收尾了.......”

说着，林决呼出一口气，

“那么按照计划.......接下来，就是搞定EUV光源的源头问题！”

听到林决的话，在场众人立马来了精神。

因为林决所说的光源，差不多可以说是是关于自研光刻机的“心脏”问题了！！

当然了......

这在国内自主研发中，并非一个从零开始的工程，而是已经有一定积累了。

在京城光机所的EUV实验室，现在便具有从关键零部件到锡滴板等核心单元的技术。

不过即使如此。

它依旧存在一个源头性的根源问题

，即——

【高重频下，锡滴靶的稳定生成与精准打靶】。

其核心原理是：

让每秒数万甚至数十万级的微小锡滴液。

在大小，速度，间距上保持一致的同时，又得让驱动激光以微米级精度，纳米级时序逐颗命中！

这个命中效率......

直接决定光源到EUV系统中的转和效率，功率上限，以及长期运行稳定寿命......

只有这个环节实现成功。

光刻机中的“刻”这个环节，才算真正跑通了。

而在这之前，解决光刻胶，还有解决多层膜误差问题，在本质上来说......便是解决【精准打靶】的前置条件！

而在目前......

这个方向，也是自主研发中光源系统最弱势的。

因为落到完全光源系统中的时候，目前无法解决激光打靶中微偏移，热变形，气流扰动，落点的积累误差......

虽然在单一节点光机所还能稍微控制一下。

但在光源不断传播中，动态误差和静态误差几乎都是呈指数级上升，偏差越来越大！

也是因此......

最后光源将锡滴液打到硅板上的光路成像质量，那画面......便属实惨不忍睹......

不过这一次。

林决倒是并未立马提出自己的想法，而是先问了问大家，

“嗯......大家有没有什么好的方案？”

闻言，众人你看我我看你。

过了好半晌，蒋默才开口道，

“你说就行，我们照做，短时间想这种方案，这不是难为我们这群老头子吗？”

闻言，房怀年笑了出来，

“哈哈哈，路径依赖了啊这是。”

蒋默翻来个白眼，

“你就说你有没有吧！”

房怀年乐邦摊手，“好吧我承认......我也是。”

陈望山哭笑不得，这些老友脸皮还真是厚啊。

紧接着，其他人也是开口。

“我们哪有什么想法，林教授您带头就行！”

“反正我们想再多，也是不如您的......”

“就是就是......”

一时间，现场的氛围无比欢快。

他们倒是并没拍林决马屁，说的全是肺腑之言啊。

林教授才来光机所多久！？

就把之前卡了许久的光刻胶材料和多层膜问题搞定

了！

面对这种天才......

他们只用当恕瑞玛沙兵，连接网络就行！

那话怎么说来着......

林决一声令下，众人血手已经触发！

众人的话让林决都是哭笑不得。

不过嘛......

这种所有劲儿都往一处使的团队，效率才是最高的。

“行，那我就说说接下来的打算.......”

在安阳之行的这段时间内。

林决利用空余时间，一直在做着相关方面的推进。

在以往的工作中......

他已经通过对光刻机理论的完善，打造出了一套属于自己的光刻体系。

光路发射，镜片反射，气流湍流，硅片晶格的热漂移，动态成像......

光刻机内部充满着各种变化。

在林决脑海中，早已经形成了一个相对静止画面。

仿佛有个相对静止的微观坐标系，将所有节点都清晰标注出来！！！

从前......

人类是让光束适配混乱的微观世界。

但现在......

林决想做的事情完全反了过来！

他要重构微观世界，他要让光刻机的微观世界去适应光束！

让这个问题，从物理根源上，彻底归零！！！

这个原创黑科技系统。

林决叫它......

“......量子场动态自校准光刻系统！？”

众人看着林决在大屏幕上打出来的那个标题，脸上不禁充满了疑惑。

“是的！”

林决点头，

“我要......让量子场作为光刻基准！”

听到这话，在场的学者和工程师们神情充满愕然。

因为他们听说过光路校准，工件台校准，大气涡流校准。

但.......

用量子场来校准光刻光源.......

包括陈望山，蒋墨，房怀年，卢敬尧这些国内顶尖光学大牛们，也都从未涉足！

此时他们在听到林决的话后，表情就像李渊听到李世明要节制天下兵马一般！

除了懵逼之外，更多的......是惊恐和惊吓！

“等等！动态校准......也就是说，它是在光源打靶同时，进行实时修正吗？”

“这是优化打靶问题吗？林教授，你这是要改写微观曝光的物理规则啊！！！”